Héich Puritéit 99,95% Wolfram Sputtering Zil
Typ a Gréisst
| Produit Numm | Wolfram (W-1) Sputterziel |
| Verfügbar Purity (%) | 99,95% |
| Form: | Plack, Ronn, Rotary |
| Gréisst | OEM Gréisst |
| Schmelzpunkt (℃) | 3407 (℃) |
| Atomvolumen | 9,53 cm3/mol |
| Dicht (g/cm³) | 19,35 g/cm³ |
| Temperatur Koeffizient vun Resistenz | 0,00482 I/℃ |
| Sublimatioun Hëtzt | 847,8 kJ/mol (25 ℃) |
| Latent Hëtzt vum Schmelzen | 40,13 ± 6,67 kJ/mol |
| Uewerfläch Staat | Polnesch oder alkalesch wäschen |
| Applikatioun: | Loftfaart, selten Äerd Schmelzen, elektresch Liichtquell, chemesch Ausrüstung, medizinescht Ausrüstung, Metallurgesch Maschinnen, Schmelzen |
Eegeschaften
(1) Glat Uewerfläch ouni Pore, Kratzer an aner Onvollstännegkeet
(2) Schleifen oder Dréibänk, keng Schneidmarken
(3) Onbezuelbar Lerel vu materieller Rengheet
(4) Héich Duktilitéit
(5) Homogen Mikro Trucalture
(6) Laser Marquage fir Äre speziellen Artikel mat Numm, Mark, Rengheet Gréisst a sou weider
(7) All Stéck Sputteren Ziler aus dem Pudder Material Element & Zuel, Vermëschung Aarbechter, outgas an HIP Zäit, machining Persoun a packen Detailer sinn all selwer gemaach.
Uwendungen
1. E wichtege Wee fir dënn Filmmaterial ze maachen ass Sputteren - eng nei Manéier fir kierperlech Dampdepositioun (PVD).Den dënnen Film gemaach vum Zil ass duerch héich Dicht a gutt Adhäsivitéit charakteriséiert.Wéi d'Magnetron Sputtering Techniken wäit applizéiert ginn, sinn déi héich pure Metall- an Legierungsziler a grousse Bedierfnesser.Sinn mat héije Schmelzpunkt, Elastizitéit, geréng Koeffizient vun der thermescher Expansioun, Resistivitéit a feiner Hëtztstabilitéit, pure Wolfram- a Wolframlegierungsziler gi wäit am Hallefleeder integréierte Circuit, zweedimensionalen Display, Solar Photovoltaik, Röntgenröhren an Uewerflächentechnik benotzt.
2.It kann souwuel mat eelere Sputtering-Devisen wéi och mat den neiste Prozessausrüstung schaffen, sou wéi grouss Flächbeschichtung fir Solarenergie oder Brennstoffzellen a Flip-Chip Uwendungen.
Zesummenhang Produiten
-
Wolfram Kupferlegierung Staang
Beschreiwung Kupfer Wolfram (CuW, WCu) ass unerkannt ginn als héich konduktivt an Erasiounsbeständeg Kompositmaterial dat extensiv als Kupfer Wolfram Elektroden an EDM Bearbechtungs- a Resistenzschweißapplikatioune benotzt gëtt, elektresch Kontakter an Héichspannungsapplikatiounen, an Heizkierperen an aner elektronesch Verpackungen Materialien an thermesch Uwendungen.Déi heefegst Wolfram/Kupfer Verhältnisser sinn WCu 70/30, WCu 75/25, an WCu 80/20.Aner...
-
Niobium Drot
Beschreiwung R04200 -Typ 1, Reaktor Grad unalloyed Niobium;R04210 -Typ 2, Commercial Schouljoer unalloyed Niobium;R04251 -Typ 3, Reaktor Grad Niobiumlegierung mat 1% Zirkonium;R04261 -Typ 4, kommerziell Niobiumlegierung mat 1% Zirkonium;Typ a Gréisst: Metallesch Gëftstoffer, ppm max duerch Gewiicht, Balance - Niobium Element Fe Mo Ta Ni Si W Zr Hf Inhalt 50 100 1000 50 50 300 200 200 Net-metallesch Gëftstoffer, ppm max per Gewiicht ...
-
Molybdän Kupferlegierung, MoCu Legierung Blat
Typ a Gréisst Material Mo Inhalt Cu Inhalt Dicht Wärmeleitung 25℃ CTE 25℃ Wt% Wt% g/cm3 W/M∙K (10-6/K) Mo85Cu15 85±1 Gläichgewiicht 10 160-180 6,8 Mo80Cu1 Gläichgewiicht 80± 9,9 170-190 7,7 Mo70Cu30 70±1 Balance 9,8 180-200 9,1 Mo60Cu40 60±1 Balance 9,66 210-250 10,3 Mo50Cu50 50±0,2 Balance 9,0±0,2 Balance 29,02
-
Molybdän Heat Shield & Pure Mo Écran
Beschreiwung Molybdän Hëtzt shielding Deeler mat héijer Dicht, exakt Dimensiounen, glat Uewerfläch, bequem-Assemblée a raisonnabel-Design huet grouss Bedeitung fir d'Kristall-zéien verbesseren.Als Hëtzt-Schëld Deeler am Saphir Wuesstem Schmelzhäre, ass déi entscheedend Funktioun vun Molybdän Hëtzt Schëld (Molybdän Reflexioun Schëld) der Hëtzt ze verhënneren an ze reflektéieren.Molybdän Hëtzt Schëlder kënnen och an aner verhënneren Hëtzt Bedierfnesser Occasiounen benotzt ginn ...
-
Lanthanated Wolfram Alloy Rod
Beschreiwung Lanthanéiert Wolfram ass eng oxidéiert Lanthan dotéiert Wolfram Legierung, kategoriséiert als oxidéiert selten Äerd Wolfram (W-REO).Wann dispergéiert Lanthanoxid bäigefüügt gëtt, weist lanthanéiert Wolfram eng verstäerkte Wärmebeständegkeet, thermesch Konduktivitéit, Kreepresistenz an eng héich Rekristalliséierungstemperatur.Dës aussergewéinlech Eegeschafte hëllefen lanthanéiert Wolframelektroden aussergewéinlech Leeschtung ze erreechen an der Boustartfäegkeet, Bouerosioun ...
-
Tantal Sputtering Target - Disc
Beschreiwung Tantal Sputtering Zil gëtt haaptsächlech an der Halbleiterindustrie an der optescher Beschichtungsindustrie applizéiert.Mir fabrizéieren verschidde Spezifikatioune vun Tantal Sputtering Ziler op Ufro vu Clienten aus der Hallefleitindustrie an der optescher Industrie duerch Vakuum EB Schmelzmethod.Duerch virsiichteg mam eenzegaartege Walzprozess, duerch komplizéiert Behandlung a korrekt Glühtemperatur an Zäit, produzéiere mir verschidden Dimensiounen op ...
