Tantal Sputtering Target - Disc
Beschreiwung
Tantal Sputtering Zil gëtt haaptsächlech an der Hallefleitindustrie an der optescher Beschichtungsindustrie applizéiert.Mir fabrizéieren verschidde Spezifikatioune vun Tantal Sputtering Ziler op Ufro vu Clienten aus der Hallefleitindustrie an der optescher Industrie duerch Vakuum EB Schmelzmethod.Duerch virsiichteg eenzegaarteg Rolling Prozess, duerch komplizéiert Behandlung a genee annealing Temperatur an Zäit, produzéiere mir verschidden Dimensioune vun der Tantal sputtering Ziler wéi disc Ziler, véiereckege Ziler a Rotary Ziler.Ausserdeem garantéieren mir datt d'Tantalreinheet tëscht 99,95% an 99,99% oder méi héich ass;d'Korngréisst ass ënner 100um, d'Flaachheet ass ënner 0.2mm an d'Surface Roughness ass ënner Ra.1.6μm.D'Gréisst kann op Ufuerderunge vun de Clienten ugepasst ginn.Mir kontrolléieren eis Produktqualitéit duerch d'Rohmaterialquell bis déi ganz Produktiounslinn a liwweren endlech un eise Clienten fir sécher ze stellen datt Dir eis Produkter mat enger stabiler a selwechter Qualitéit all Lot kaaft.
Mir probéieren eist Bescht fir eis Techniken ze innovéieren, d'Produktqualitéit ze verbesseren, d'Produktnutzungsquote erhéijen, d'Käschte erofsetzen, eise Service verbesseren fir eise Clienten mat méi héije Qualitéitsprodukter ze liwweren awer manner Akafskäschte.Wann Dir eis gewielt hutt, kritt Dir eis stabil héichwäerteg Produkter, méi kompetitiv Präis wéi aner Fournisseuren an eis rechtzäiteg, héich effizient Servicer.
Mir produzéieren R05200, R05400 Ziler déi den ASTM B708 Standard entspriechen a mir kënnen Ziler maachen wéi pro Är geliwwert Zeechnungen.Mat Virdeeler vun eise héichqualitativen Tantal Ingots, fortgeschratt Ausrüstung, innovativ Technologie, professionnell Team, hu mir Är erfuerderlech Sputterziler ugepasst.Dir kënnt eis all Är Ufuerderunge soen a mir hunn eis an der Fabrikatioun op Är Bedierfnesser gewidmet.
Typ a Gréisst:
ASTM B708 Standard Tantal Sputtering Target, 99,95% 3N5 - 99,99% 4N Rengheet, Disc Target
Chemesch Zesummesetzung:
Typesch Analyse: Ta 99,95% 3N5 - 99,99%(4N)
Metallesch Gëftstoffer, ppm max
Element | Al | Au | Ag | Bi | B | Ca | Cl | Cd | Co | Cr | Cu | Fe |
Inhalt | 0.2 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 0.1 | 0.1 | 1.0 | 1.0 | 0,05 | 0,25 | 0,75 | 0.4 |
Element | Ga | Ge | Hf | K | Li | Mg | Na | Mo | Mn | Nb | Ni | P |
Inhalt | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 0,05 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 5.0 | 0.1 | 75 | 0,25 | 1.0 |
Element | Pb | S | Si | Sn | Th | Ti | V | W | Zn | Zr | Y | U |
Inhalt | 1.0 | 0.2 | 0.2 | 0.1 | 0,0 | 1.0 | 0.2 | 70,0 | 1.0 | 0.2 | 1.0 | 0,005 |
Net-metallesch Gëftstoffer, maximal ppm no Gewiicht
Element | N | H | O | C |
Inhalt | 100 | 15 | 150 | 100 |
Gläichgewiicht: Tantal
Grain Gréisst: Typesch Gréisst <100μm Grain Gréisst
Aner Kärgréisst verfügbar op Ufro
Flaachheet: ≤0,2 mm
Surface Rauh: < Ra 1,6μm
Uewerfläch: poléiert
Uwendungen
Beschichtungsmaterial fir Halbleiter, Optik